FotoCreativaBA LANZA DOS CONVOCATORIAS INTERNACIONALES DE FOTOGRAFÍA EXPANDIDA EN JAPÓN Y CHINA
La plataforma porteña abre simultáneamente dos programas de residencia artística: uno en colaboración con IDEA R LAB en Kurashiki y otro con OrganHaus en Chongqing.
FotoCreativaBA, plataforma dedicada a la formación, producción e investigación en fotografía expandida y arte contemporáneo, tiene abiertas dos convocatorias internacionales de residencia artística para artistas visuales, fotógrafos e investigadores de cualquier parte del mundo.
La primera es la Residencia en Japón, desarrollada en colaboración con IDEA R LAB, espacio dirigido por Hiroko Ohtsuki en Kurashiki. El programa combina un laboratorio online de doce meses (marzo 2027 – febrero 2028) con un mes de residencia presencial en Kurashiki durante marzo, abril o mayo de 2028. La fase online incluye un disparador teórico y creativo mensual que conecta la fotografía expandida con la estética japonesa —Wabi-Sabi, Kintsugi, el intervalo Ma, el movimiento Provoke—, mentoría curatorial individual con Natheim, directora del programa, y encuentros grupales con artistas invitados. La fase presencial está concebida como un espacio de exploración basada en el contexto local, con experimentación con materiales de desecho industrial y diálogo con la comunidad de Kurashiki. El programa incluye instalaciones compartidas y alojamiento; no cubre pasaje aéreo ni materiales. El plazo de postulación cierra el 30 de diciembre de 2026.
La segunda es la Residencia en China, en colaboración con OrganHaus, organización independiente sin fines de lucro con sede en la Fábrica de Vidrio Beiyuan, en Beibei, Chongqing. El programa combina doce meses de formación curatorial online (septiembre 2026 – agosto 2027) con un mes de residencia presencial en Chongqing, distribuida en cohortes de tres o cuatro artistas a lo largo de 2027–2028. La residencia incluye espacio de estudio compartido, alojamiento, asistencia del equipo de OrganHaus y conexión con la comunidad artística local. No cubre pasaje aéreo, visa, seguro ni gastos personales. El plazo de postulación cierra el 15 de agosto de 2026.
Ambos programas son bilingües (español/inglés) y están dirigidos a artistas interesados en fotografía expandida, prácticas interdisciplinarias y diálogo transcultural. Consultas e inscripciones a través de hola@fotocreativaba.com.
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