CONVOCATORIA ABIERTA PARA EL PROGRAMA DE RESIDENCIA DE IMPRESIÓN Y PUBLICACIÓN EN RISOGRAFÍA

Penumbra Foundation ofrece a los artistas la oportunidad de proponer un proyecto fotográfico para producirlo en forma impresa en sus instalaciones Risograph de Nueva York. Fecha límite para aplicar: 15 de febrero de 2023.

febrero 07, 2023
CONVOCATORIA ABIERTA PARA EL PROGRAMA DE RESIDENCIA DE IMPRESIÓN Y PUBLICACIÓN EN RISOGRAFÍA

Los requisitos de solicitud incluyen una propuesta de proyecto por escrito; imágenes de soporte del proyecto, incluyendo maquetas existentes, pdfs, o maquetas que pueden ser relevantes para la forma del proyecto como un libro, o en la impresión; detalles de la experiencia previa (si los hay – no es un requisito) con la impresión y la producción de libros y la impresión risográfica; un manifiesto de por qué el proyecto propuesto podría ser adecuado para la reproducción Risograph.

 

Algunos beneficios del programa son recursos, asistencia y tiempo para producir un proyecto de risografía de pequeña edición en las Instalaciones de Risografía de la Fundación Penumbra en NYC; un presupuesto que se asignará a la producción del proyecto propuesto para cubrir los costes de tinta, papel y encuadernación, según sea necesario y se considere apropiado para el proyecto; un resumen básico del funcionamiento y uso del Risógrafo ME9450; una revisión del proyecto, con posibilidad de comentarios críticos; el "tiempo de prensa" se determinará en función de las propuestas individuales y puede variar; los residentes dispondrán de aproximadamente un mes para producir sus proyectos en junio, julio o agosto de 2023; distribución y promoción del proyecto.

 

Todos los residentes de 2023 deberán presentar sus proyectos en un acto colectivo abierto al público, en octubre de 2023, en el espacio de proyectos de Penumbra en la ciudad de Nueva York.

 

El plazo de solicitud finaliza el 15 de febrero de 2023.

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